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5原子弹不存在专利受限,但光刻机是商用的,所以只是追赶,哪怕能弯道超车意义也不大吧。好比日本的氢能源,不是我们技术不行,而是你做的越多,大部分成果都是便宜了小日本。 说白了还得靠创新,做出前所有未有的半导体设备、技术和标准出来。跟在后面抄作业这一招已经不灵了。 或者等天下有变,通过其它途径实现复兴。当然我还是有信心中国能出现一些开辟新赛道的人。
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16根据半导体行业组织SEMI的数据,2023年全球半导体制造设备的销售额达到了1063亿美元,相较于2022年的1076亿美元的历史峰值,略有下降,下降了1.3%。 按照地区划分,中国大陆仍然是全球最大的半导体设备市场,去年在该领域投资了366亿美元,增长了29%,占据了全球市场的34.43%。 据了解,中国大陆在汽车等多个领域中大量采用28纳米以上的成熟制程半导体,目前已经占据了全球生产能力的29%。 受到美国等国家对于先进设备的出口管制的影响,中国大陆
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8近日,高通接洽收购英特尔事宜,CNBC 证实了这则消息。《华尔街日报》率先报道了此事。 如果最终谈成,这笔交易将成为有史以来最重大的科技并购案之一。目前英特尔的市值 934 亿美元:
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21最难的是光刻机,其次是离子注入机,再后面是薄膜沉积、刻蚀机。现在看来均已取得突破。 后面两种设备国内比较早就解决了,已经进入市场扩张期。 光刻机和离子注入机,最近也都解决了。 SMEE DUV光刻机目前量产的是DUV1,满足28nm量产所需。DUV2估计也已经完成生产线验证,进入量产阶段了,需要扩大产能。 离子注入机,凯世通和电科45年都在搞。凯世通已经收获60台订单,需要扩大产能。 薄膜沉积:北方华创,沈阳拓荆,刻蚀机:中微公司,都
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21还能进口arfi吗,asml还有最后一个1965,尼康也能做arfi。不能进口的话,最先进的arf有没有限制,比如1470,它能多重曝光用于28制程吗
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28干式光刻机,浸润式光刻机,euv光刻机不是先后关系,他们的关系大概是: 干式光刻机搞了很多年:歼10最后最后成熟歼 10A 浸润式光刻机(02专项):歼10B(PESA) 网传的浸润式二代:歼10C(AESA) 当年歼10B出来没多久,AESA也紧随其后搞定了歼10B生产了二个批次50架左右就停了,后面都是歼10C。 EUV相当于是歼20,刚开始首飞都是AL31去飞,各种性能跟不上,也是多年后歼20B才正式完整版,但是即便初代验证版歼20也是碾压歼10C和歼16的,多次对抗就是砍瓜切菜,
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64余承东:华为PC或将是最后一批搭载Windows的笔记本!后续将会有鸿蒙系统PC产品 9月20日午间消息,今日,华为常务董事、终端BG 董事长、智能汽车解决方案BU董事长余承东做客央视新闻直播间,与总台主持人尼格买提共同见证华为Mate XT三折叠新机交付。直播期间,余承东透露称,“由于制裁相关影响,目前的华为PC或将是最后一批搭载 Windows 系统的笔记本电脑,后续将会有鸿蒙系统的PC产品。”
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18在国产化这个领域,有一种说法,所有的技术都得是国产,不使用任何外国技术,才是最安全的。自主可控和技术引进冲突吗?
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8665nm以前也一直保密(此时已研发完成,但未成熟),第一次真正官宣就是大规模推广(成熟后)。 同样的,28nm的现在可能就处在65nm两年前的位置(研发完成,但未成熟),不能以未官宣就断言研发未完成!
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19龙芯中科(688047)09月19日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。
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16(对于各算力卡,大致按照性能与可用性进行了排序) 已量产,可采购/租用: 1.华为海思 昇腾910 512 TOPS@INT8 256 TFLOPs@FP16 2.天数智芯 天垓100 256 TOPS@INT8 128 TFLOPS@FP16 32 TFLOPS@FP32 3.昆仑芯R200 INT8: 256 TOPS INT16: 128 TOPS FP16: 128 TFLOPS FP32: 32 TFLOPS 4.寒武纪 思元MLU370-X8 256 TOPS (INT8) 128 TOPS (INT16) 96 TFLOPS (FP16) 96 TFLOPS (BF16) 24 TFLOPS (FP32) 5.燧原 云燧 T20 INT8: 256TOPS FP16/BF16: 128 TFLOPS TF32: 128 TFLOPS FP32: 32 TFLOPS 6.摩尔线程 MTT S4000 INT8: 200TOPS FP16: 100 TFLOPS FP32: 25 TFLOPS TF32: 50 TFLOPS 7.海
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23原来是为龙芯作势,各位觉得哪家国产CPU转向开放市场有戏?
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50一般12英寸的晶圆可以产出500块手机芯片,每台光刻机一小时生产200多快晶圆,一天工作10几个小时,那每台光刻机一天就可以生产10万快手机芯片。(因为一片手机芯片要光刻十几次)。那华为目前有四台2050i,理论上一个月就可以生产出1000万片麒麟手机芯片了。那怕划出一半的产能去做算力芯片,也够了。所以光刻机产能问题应该不存在才对。更客况还有许多1980i
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64买了一堆荷兰的机子明年不给维修,就没办法反制?
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991、可以到,28nm,甚至14nm。 2、它家部分供应商有成品,但还没把部分关键零部件国产化,在研中 3、物镜系统、光源系统尤其是是EUV部分,都各只有一家厂商具备产业化制造能力(德美各一家),DUV 的话,还有日系。这些光刻机子系统的国产厂商,目前好像都在建或差不多建好制造基地。 说到底,就是浸没式duvi还没实现产业化量产,产能可能只能供给华为这种能够接受低良率的厂商逐步改善,外加部分关键零部件还没实现国产化,产能就更加没法保证
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8中国海关总署6月7日公布了5月进出口数据。重点商品中,集成电路5月出口金额同比增幅高达28.47%,增幅位列第二,仅次于船舶(57.13%)。1-5月,集成电路出口金额同比增长21.2%,超越同期汽车20.1%的同比增幅。 国内集成电路5月产量暂未公布,不过国家统计局日前发布的数据显示,4月集成电路产量同比增幅高达31.9%,超过工业机器人(25.9%)与汽车(15.4%)等产品。
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16不只是龙芯,其实这就跟中国自主可控的历史有关
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39所以,不要拿股市一惊一诧的
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342002年9月,台积电的林本坚公开发表纯水浸没式光刻演讲 2003年10月,荷兰ASML研制成功浸润式光刻机原理样机 2004年推出首台浸液式设备TWINSCAN XT:1250i(分辨率仍为65纳米) 2007年推出首台商用浸液式设备TWINSCAN XT:1900(分辨率 36.5 纳米)。
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