DOI号:10.1016/j.microc.2020.104929.文献链接:Magnetic Fe3O4@NH2-MIL-101(Fe) nanocomposites with peroxidase-like activity for colorimetric detection of glucose - ScienceDirect文献作者:Yanyan Xing a, Huizhong Si a, Duhong Sun b, Xiaohong Hou b备注信息:求下载该文献补充材料

（1） “自上而下”剥离制备方法 微机械力剥离法是“自上而下”法中一种简单并常用的获取二维材料的方法。早在 1965 年，Frindt 等人[27]就通过特质的胶带从体状二硫化钼剥离成只有几层厚度的薄膜，之 后经过多年科学界探索，在 2004 年，英国曼彻斯特大学的Andre Geim和Konstantin Novoselov通过对石墨的机械剥离得到单层的石墨烯。微机械剥离的原理十分简单，因为 二维材料层与层之间是由微弱的范德瓦尔斯力结合成，而利用胶带的粘性力可以使层分离

（1）选择质量更好的铜基石墨烯，石墨烯缺陷越少，晶格键合越牢固，可以提高转移后石墨烯的薄膜的完整性。 （2）转移过程中保证铜基石墨烯或PMMA基石墨烯的平整，褶皱可能导致石墨烯的破碎。 （3）捞取石墨烯过程中，要缓慢捞取，确保PMMA/G平整的铺在衬底上。

（1）双功能有机分子如乳酸或是氨基酸，羧基与量子点表面的Zn2+等离子间发生强的吸附作用，使含羧基的有机分子包覆在量子点的表面，通过表面修饰可以钝化Zn表 面，阻止或降低晶粒的生长速度，有效的调节粒子的尺寸，避免量子点的团聚。而另一端的功能基团如羧基，氨基则提供亲水性，使其从疏水性转变为亲水性。另一方 面，羧基，氨基也可用来与生物大分子结合，提高量子点与生物分子的偶联性。 甲基丙烯酸（MMA）就是很好的双功能有机

（1）天然法 纳米WS,和MoS2具有优异的性能和广阔的应用前景，所以国内外对纳米WS2和MoS2制备及应用都进行了大量的研究。MoS2可以由天然法，即辉钼精矿提纯法制备，该法是 将高品质的钼精矿经过一定的物理和化学作用，除去辉钼精矿中的酸不溶物、Si02、Fe、Cu.Ca、Pb等杂质，再进一步细化，获得纳米MoS2。美国Climax钼公司就是采用了 这种方法生产MoS2".这种方法制成的纳米MoS2，能够保持天然的MoS2晶形，润滑性能较好，适合制成润滑剂。但是，采用

CVD 法制备 TMDCs 二维薄膜的生长机理十分复杂，并且影响薄膜生长的因素众多，在 CVD 法制备 WSe2 薄膜的实验中，我们发现温度、前驱物 WO3 粉末的量及其 与衬底之间的距离对实验结果影响巨大。 （1）前驱物钨源与衬底之间距离对 WSe2 薄膜生长的影响 当距离过远时，会导致过渡相 WO（3-x）沉积到衬底时的浓度较低，从而抑制了薄膜的生长，更倾向于生长成体状颗粒。当前驱物钨源与衬底距离过近时，过渡相 WO（3- x）沉积在衬底的浓度过高，抑制了成

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十一维科技首次推出自主搭建的化学气相沉积系统，产品的特点主要是以实用性以及针对性为主，适合高校小规模生长高质量、少缺陷的CVD二维材料薄膜，尤其是CVD石墨烯、CVD二硫化钼、六方氮化硼等。 P1：石墨烯化学气相沉积系统（G-CVD） G-CVD可以稳定的重复制备出包含满单层石墨烯、多层石墨烯、石墨烯单晶等众多石墨烯薄膜样品。 下列均为本系统生长的CVD石墨烯系列产品。

石墨烯中的碳原子以蜂窝状晶格形式结合在一起，由于其无数的不凡的特性，被科学家誉为“神奇的材料”。石墨烯具有突出的电学性能和热学性能，不但是良好的导体，且具有理想的比表面积，同时拥有不错的柔性。石墨烯作为生态友好和可持续绿色材料，在众多应用中具有无限的可能性。 在电池领域，在传统的电池电极材料中加入石墨烯后，其性能将得到显着改善。石墨烯电池更加轻巧、耐用且适用于高容量能量存储，并且可以缩短充电时间。

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石墨烯的结构 石墨烯即为“单层石墨片”,是构成石墨的基本结构单元；而碳纳米管是由石墨烯卷曲而成的圆筒结构。作为结构基于石墨烯的另外一种碳材料，碳纳米管和石墨烯的基本组成单元是一样的，尤其是未封闭的碳纳米管，两者均是碳六圆环的耦合，因此两者的制备方法也是相似的。 完美的石墨烯是碳原子紧密堆积成单层二维蜂窝状平滑的晶格结构的一种碳质新材料，其局部结构均有碳六圆环构成，在实际中有缺陷的地方往往存在碳五圆环和

近年来，二维过渡金属硫族化合物（TMDCs）及其异质结由于其出色的性能成为国内外研究热点。与二维石墨烯的零带隙不同，二维TMDCs拥有较大的禁带宽度及可调的带隙等特性使其在逻辑器件、光电子器件等应用方面取得广泛应用，如场效应晶体管、逻辑电路、柔性电子器件、光电探测器、光伏器件、生物传感等，展示了巨大的商业应用潜力。然而，为了满足实际器件应用需要，高质量、大面积二维TMDCs的合成仍然面临巨大的挑战。 针对现状与未来发

答：通过调节氧化石墨烯制备过程中的氧化阶段，控制该阶段的时间、氧化剂用量等。具体为 1、氧化石墨烯: Brodie法：控制反应次数，以KCLO3为氧化剂 Staudenmaier法：反应体系温度维持在0℃，通过控制反应时间来控制氧化程度，以KCLO3为氧化剂 Hummers法：以KMnO4为氧化剂 2、还原氧化石墨烯: 热还原一般是将GO在真空、惰性气氛或还原气氛下加热至200°C以上进行还原。GO还原首先发生在127°C，温度高于600°C，氢和氧持续损失，还原GO的临界温度似乎是 1000&#39

答：CVD 法制备 MoS2 的主要影响因素为气相生长过程中两种反应物 MoO3和 S的浓度比，这主要由生长的温度(影响粉末的蒸发速率)，载气的流量，反应炉的气压等决 定。考虑到反应分为两步进行，MoO3熔点795°C，S熔点112°C，反应温度过低 MoO3 粉末和S粉末蒸发太慢，薄膜生长的均匀性降低，反应温度过高 MoO3 粉末和 S 粉末 蒸发太快不能充分发生反应，且 MoS2 容易形成岛状颗粒，影响 MoS2 薄膜的质量。设置反应时温度为 850°C，当温度升至 550°C 时，S 粉处温

答：主要有电化学法、微波和超声法和酸氧化法等。 （1）电化学法，通过切割得到的碳纳米片发生阳极氧化，从而修饰官能团 （2）微波和超波法，通过在水热环境中脱水修饰官能团 （3）酸氧化法，通过水热反应控制氨水加入量和反应温度修饰官能团 [1] 吴潇龙. 石墨烯量子点的高效制备及光学性能调控[D]. 长春理工大学, 2015.

答：量子带你的带隙主要依靠调节量子点尺寸来实现，调节量子点尺寸的方法有如下： （1）化学剥离碳纤维法，通过改变反应温度可以调节石墨烯量子点的带隙和尺寸 （2）微波辅助水热法，随反应时间延长石墨烯量子点逐渐长大，反应时间是石墨烯量子点粒径大小的决定性因素 （3）可控热解多环芳烃法，形貌和粒径大小可通过热解温度来调节 （4）光照芬顿反应法，可通过控制光照时间来调节石墨烯量子点的粒径大小。 （5）C60开笼法，通过改变

石墨烯量子点的主要制备方法有：溶剂热法、化学剥离法、脱水碳化法、化学处理和剥离沥青基炭法、炭60为前驱，利用Ru做催化剂、电化学法、碳纤维剥离法、水热法、超声波 法、微波法、热解碳化法、电弧放电法、激光刻蚀法、燃烧法。 [1]关磊，郝达锦，王莹，石墨烯量子点的制备及应用研究进展[J]，化学学报，2018,[2]刘玉星，朱明娟，石墨烯量子点的制备及应用[J]，化学学报，2017，[3]刘梦丽，新型石墨烯及类 石墨烯量子点的制备及应用，论文

二维纳米材料制备技术的快速发展为高性能电子器件的设计与应用提供了重要基础。由于电子器件需要在介电层上进行组装与集成，因此，研究有机分子的自组装行为，在绝缘衬底表面上直接构筑均匀的二维纳米材料对于研究材料的基本物理性质、开发规模化应用具有重要意义。 化学所有机固体实验室的科研人员以六羟基苯并菲(HHTP)为有机配体，通过化学气相沉积技术研究了水-氧气氛对晶体生长的影响，制备了高质量的Cu3(HHTP)2MOF材料 (Mater. Chem. Front.

对于半导体行业而言，高精度高工艺衬底是必不可少的，目前国内晶圆生产线主要以4、8和12英寸为主。随着半导体特征尺寸越来越小，加工及测量设备越来越先进，现如今的晶圆加工也出现了新的数据特点。 除了常规的厚度、尺寸等参数，还涌现出大量精密的数据特点，如不同晶向、表面粗糙度、掺杂类型、掺杂比例、TTV、PLTV、边缘倒脚、BOW及仔晶区域等高精度参数。 十一维科技专供高标准高精度专用衬底【单晶硅片、氧化硅/硅衬底、蓝宝石衬底

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