花生财经，光刻胶发展史1839年苏格兰发明家曼戈·庞东发现了重铬酸盐明胶的感光潜力，他借助重铬酸盐明胶开发了世界上第一套“光刻系统”。
01 上世纪50年代贝尔实验室尝试开发全球首块集成电路的过程中，重铬酸盐明胶制成的半导体光刻胶由此诞生。对于当时的初代光刻工艺来说，重铬酸盐明胶的分辨率已足够，但抗蚀性能不佳，无法充分阻止氢氟酸对硅片的刻蚀。为解决这一问题，贝尔实验室找到柯达公司，柯达首先开发了新型光刻胶体系，其产品以KPR商品名称来供应市场。
由此可见，整个半导体行业起源自美国，柯达公司的KPR光刻胶可谓半导体光刻胶的改良之作。直至上世纪81年代，美国IBM仍然在光刻胶的开发中遥遥领先。
