中科海采用世界领先Eifeler的最新 PVD涂层技术，具有专利的 Alpha系列 PVD涂层机以其优异的性能在业界得到了广泛使用。
Alpha电弧离子 PVD 设备是一种采用电弧离子 PVD 技术在工模具、 零部件或刀具表面涂覆金属基导电硬质涂层的反应性真空镀膜设备。 电弧离子PVD技术是指借助于电弧产生PVD工艺所需的金属离子和原子。 靶材和腔体被连接到DC电源， 前者作阴极， 而后者作为阳极。 通过阳极触针和阴极之间的辅助放电来点燃电弧， 之后阳极和靶材间产生持续放电， 将靶材蒸发并离子化成极其细小的微观粒子。借助于永磁体的作用可将电弧局限在靶材表面， 并使其以随机的圆形在靶材表面移动。 靶材生成的离子、 原子与离子化的反应气体生成化学键结合， 并沉积在基材表面形成所需的涂层。 连接到导电基体( 工件) 的偏压用于改变离子的能量， 进而影响涂层的性能。为了增强涂层与基底的结合力， 通过辉光放电和溅射刻蚀将安装于转盘上的基材做进一步清洁，然后在基体各面进行涂层处理。 通过辐射加热来间接加热基底以满足 PVD?涂层工艺的需要。除涂层外， Alpha?电弧离子涂层机可以同时实现离子氮化处理。 借助于安装在设备顶部的等离子体源和腔室底部的阳极， 在涂层室内产生等离子。 通过离子氮化工艺， 可在基材表面产生一定厚度的渗氮层。 使用配置等离子体源的电弧 PVD系统， 可以一次性连续完成对基材的离子氮化和后续涂层。 这个过程被称为 Duplex涂层工艺。
中科海也采用溅射技术沉积一些特定的涂层。 溅射是指通过高能离子冲击靶材， 溅射出靶材原子并转化为气体的物理过程。 溅射通常是指溅射沉积， 也属于真空PVD涂层工艺。
涂层前对工模具表面作适当的准备处理是涂层成功最关键的因素之一。中科海具有先进的超精密研磨生产线和超声波清洗线、碳氢清洗机、乳胶清洗机等先进的清洗设备是涂层效果保证的前提。
适合涂层的表面包括：精磨表面、抛光且新鲜洁净的金属表面、足够的基体硬度、表面粗糙度(Rz<1微米)、正确的热处理、表面作防蚀保护
更多内容请参考http://csczkh.com/
四川中科海科技致力于追求卓越的零件表面性能
Alpha电弧离子 PVD 设备是一种采用电弧离子 PVD 技术在工模具、 零部件或刀具表面涂覆金属基导电硬质涂层的反应性真空镀膜设备。 电弧离子PVD技术是指借助于电弧产生PVD工艺所需的金属离子和原子。 靶材和腔体被连接到DC电源， 前者作阴极， 而后者作为阳极。 通过阳极触针和阴极之间的辅助放电来点燃电弧， 之后阳极和靶材间产生持续放电， 将靶材蒸发并离子化成极其细小的微观粒子。借助于永磁体的作用可将电弧局限在靶材表面， 并使其以随机的圆形在靶材表面移动。 靶材生成的离子、 原子与离子化的反应气体生成化学键结合， 并沉积在基材表面形成所需的涂层。 连接到导电基体( 工件) 的偏压用于改变离子的能量， 进而影响涂层的性能。为了增强涂层与基底的结合力， 通过辉光放电和溅射刻蚀将安装于转盘上的基材做进一步清洁，然后在基体各面进行涂层处理。 通过辐射加热来间接加热基底以满足 PVD?涂层工艺的需要。除涂层外， Alpha?电弧离子涂层机可以同时实现离子氮化处理。 借助于安装在设备顶部的等离子体源和腔室底部的阳极， 在涂层室内产生等离子。 通过离子氮化工艺， 可在基材表面产生一定厚度的渗氮层。 使用配置等离子体源的电弧 PVD系统， 可以一次性连续完成对基材的离子氮化和后续涂层。 这个过程被称为 Duplex涂层工艺。
中科海也采用溅射技术沉积一些特定的涂层。 溅射是指通过高能离子冲击靶材， 溅射出靶材原子并转化为气体的物理过程。 溅射通常是指溅射沉积， 也属于真空PVD涂层工艺。
涂层前对工模具表面作适当的准备处理是涂层成功最关键的因素之一。中科海具有先进的超精密研磨生产线和超声波清洗线、碳氢清洗机、乳胶清洗机等先进的清洗设备是涂层效果保证的前提。
适合涂层的表面包括：精磨表面、抛光且新鲜洁净的金属表面、足够的基体硬度、表面粗糙度(Rz<1微米)、正确的热处理、表面作防蚀保护
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