不是很懂,谁来说明一下,芯片不是归根到底是看晶体管数量吗?先进制程工艺也就是为了在有限空间内放入更多的晶体管。而且我记得炭基未来会超硅基,也是因为炭基的制程上限比硅基更高啊。这28nm炭基比2.8nm硅基强有点看不懂。还是说炭的导电性和硅不一样?(这个真心不懂)
另外硅基工艺应该不能直接用在炭基上吧,选硅作为芯片材料理由之一就是能通过形成二氧化硅,在后续掺杂时形成保护层,以及在金属层和晶圆层形成绝缘层,防止短路。但问题是硅基如果照搬工艺,那么形成的二氧化碳是气体,做不了绝缘层,所以工艺肯定不能照搬,也就是说要从头开始去研发全新的工艺流程。相比之下,硅基光刻工艺再怎么说也有现成技术可以借鉴。
与其说石墨烯晶圆是为了弯道超车挑战现有硅基工艺,不如说这是为了在日后的炭基芯片争夺战上避免落后而做出的提早布局。毕竟现在光刻工艺落后,也是因为当年有一段时间的空窗期导致的,现在努力“追赶”其实就是为当年的空窗期买单。为了不在炭基上出现同样的情况,才需要提前布局吧。
滑稽保命