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前几天今日头条上看到我国研制了新型40nm波长深紫外光刻光源
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贴吧用户_039KP9W
龙芯3A
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前几天今日头条上面报道说我国突破了一种40nm波长的深紫外光刻光源 现在找不到了 因为没记住标题谁知道告诉我一下
贴吧用户_039KP9W
龙芯3A
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duv深紫外是193纳米,曝光后经过5组镜片形成的光线是65纳米。5组镜片加一层水,出的光线是38纳米。38纳米加10纳米的掩码,一次曝光就可以形成28纳米工艺。
Euv一次曝光爆出的光线是17.5纳米,euv不能透水.
日本搞出过一个157纳米的duv光源,透过5组镜片小于65纳米,但是不能透水,和38纳米的沉浸式光刻机比没有优势,已经不再发展
贴吧用户_039KP9W
龙芯3A
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看今日头条40nm波长的一种新型短波长深紫外光源可以做euv国产之前的过渡产品谁看过这个文章告诉我一下标题标题忘记了
1983zhou1
吧主
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不会是同步加速自由电子相干光源吧?大哩个大,贵里个贵,有工业前途吗?
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