百盛光电生产的清洗机中，QDR 快排冲洗槽是不可缺少的一部分，它主要用于去除晶圆表面微粒杂质和残留化学药液，使晶圆表面洁净。QDR 是晶圆湿法清洗中最重要的一个清洗工艺模块，主要由喷淋槽、溢流槽、匀流板、快排汽缸体、喷嘴喷管、管路和管件等组成。

↑ QDR 示意图
槽体由进口 NPP 板材焊接加工而成，由安装在槽体底部的快排汽缸、底部 DI 水注入孔及顶部左右两侧的 DI 水喷嘴实现槽体的快速注入与排放，有氮气鼓泡功能。在溢流排放口安装有 DIW 电阻率检测仪，可对冲洗溢流的水质适时检控。
一、喷淋管路
上喷淋管路共有两路， 形成相互交叉喷淋，但去离子水不宜直接喷淋冲洗晶圆表面，因晶圆在水蚀作用下直接喷淋晶圆表面，易产生微粒污泥而污染晶圆表面，因此，在去离子水的喷淋过程中，需要对冲洗水压、水量、方向和角度作出调整测试，以达到微粒污染少的最佳效果。 良好的喷嘴所喷淋范围涵盖全部晶圆及片盒； 而不良的喷淋冲洗形状，没有涵盖全部晶圆及片盒， 未被喷淋冲洗的死角地带，微粒、杂质及化学药液残留含量仍然很高，而达不到良好的清洗效果。
二、氮气鼓泡
上喷淋同时， 下喷淋管路由底部两侧不断进水，而后由内槽上沿四周溢出，这样，每个晶圆片缝、各处边角的去离子水都能连续得到更新。 同时，纯净氮气由下喷淋管路进入槽体。 氮气鼓泡有以下几个作用：（1）增加了去离子水的冲刷力，对槽体本身有很好的自清洗作用；（2）晶圆在水流中颤动，气泡不能沾附其上，提高了冲洗效果；（3）减少去离子水中的含氧量，避免在晶圆表面生成氧化物。

↑ QDR 实拍图
三、快冲快排
QDR 喷淋注满水时间和排水时间，对晶圆清洗质量有很大影响。 因晶圆表面暴露在空气中会接触空气中的氧分子或水汽，在常温下，即会生长一层很薄的氧化层（约为 0.5~1 nm），这层自然氧化物的厚度与暴露在空气中的时间长短有关， 因此，喷淋注满水时间越长，晶圆暴露在空气中的时间就会越长，因而形成的氧化层也越厚，这对晶圆清洗，是很不利的。 QDR 排水的时间越短，排水流速就会越大， 有利于去离子水带走晶圆表面上的微粒杂质。因此，在 QDR 设计中，要尽可能的缩短喷淋注满水时间和排水时间，实现快冲快排，整体效率也会得到提高。