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UV/O3 CLEAN基板清洗、光刻胶残渣清除SAMCO

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紫外臭氧清洗(UV/O3 Cleaning)过程提供一种简单,经济,快速获得超洁净的表面,去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝*等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外臭氧清洗非常理想可以获得获得超洁净的表面。
UV/OZONE CLEANER/STRIPPER
类SAMCO


IP属地:江苏1楼2020-06-11 17:17回复
    替代日本SAMCO,功能更多,价格便宜。
    紫外臭氧清洗机可应用于多个领域,如器件制造、材料科学、生物化学和分子生物学的研究。
    · 表面清洗
    · 器件封装中引线架和焊盘的清洗
    · 表面改质
    · 表面活化
    · 亲水性控制
    · 粘接性能的改善
    · 表面氧化(沉积薄氧化层)
    · 有机污染物的去除
    · 光刻胶灰化
    · 紫外固化, 除气和光刻胶的坚膜


    IP属地:江苏2楼2020-06-11 17:18
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      IP属地:江苏3楼2020-06-11 17:20
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