在1977年4月的全国微型机专业会议上，确定了中国微机今后的发展方向为参照Intel 8008的DJS-050系列五个机型，以及参照Motorola 6800的DJS-060系列四个机型。这两大系列的样机于1980年前后陆续研制成功。[文献：董光璧，中国近现代科学技术史，湖南教育出版社，1995?]。在1979年11月陕西的微型机交流会上，参展的国产微型机有六十多个品种，包括我国当时速度最快、外部设备最齐全的微型机DJS-061-1。[文献：李少白，科学技术史，华中工学院出版社，1984]

1979年上海元件五厂和上海无线电十四厂，联合仿制（逆向工程）成功单片8080八位微处理器（编号5G8080）。8080为美国英特尔（Intel)公司在1974年推出的第二款八位处理器，集成6000只晶体管，每秒运算29万次。自1975年第一台个人电脑诞生以后，8080芯片帮助英特尔在几年后占据了电脑芯片的霸主地位。西德仿制出8080芯片是在1980年10月，而苏联甚至是1986年。

上世纪70年代末，我国又陆续研制出256和1024位ECL高速随机存储器，后者达到国际同期的先进水平；可以生产NMOS256位和4096位、PMOS1024位随机存储器；掌握了对于大规模集成电路制造起着重要作用的无显影光刻技术，可用于制造分子束外延设备[文献：李少白，科学技术史，华中工学院出版社，1984。]；中科院上海冶金所还独立发展了制造集成电路所需要的离子注入机，并出口到日本[文献同上，董玉振]

1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。

你这样，佑佑就要转移话题了

1980年，清华大学徐端颐团队完成了国内第一台“自动对准分步投影光刻机”的研制，精度三微米，加工最细线宽为0.8微米，接近国际主流水平，填补了国内技术空白。此成果获1981年北京市首届科技成果一等奖。直到今天世界上依然只有美国、日本等少数国家能制造这种设备。

1980年，王守武团队研发成功“16K位MOS动态随机存贮器”，并于次年获中国科学院重大科技成果奖一等奖。

1981年，中国科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。

1982年科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，保守估计跟当时最先进的canon相比差距不超过4年。

1982年，参考DG公司NOVA16位小型计算机，采用国产中大规模集成电路的DJS-153小型计算机研制成功。同时，与NOVA-3机兼容的DJS-185机也由上海电子计算机厂完成。[文献：周蕾，中国计算机产业发展大事记]

截止到1983年，超大规模集成电路的关键设备研制工作也取得一定的进展，不少基础材料基本达到生产要求。[文献：中国电子器件工业总公司办公室，中国电子器件工业，p.IV-79，中国经济年鉴，1983年刊（北京版），经济管理杂志社，1983]

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机并通过电子部技术鉴定，认为达到了美国DSW4800的水平。

电子计算机虽然与国外还存在一定差距，但也一直在进步追赶。在光刻机方面说世界第二不敢当，但说仅次美日比肩韩台还是没问题的。

日本与韩台的半导体发展历史有较大差异，日本起步早发展也很快，甚至一度领先美国。韩台是起步晚但靠着承接技术和生产线拥有了远超对手的起跑线。

1975年，北京大学物理系半导体研究小组，由王阳元等人，设计出我国第一批三种类型的（硅栅NMOS、硅栅PMOS、铝栅NMOS） 1K DRAM动态随机存储器，它比美国英特尔公司研制的C1103要晚五年，但是比韩国、Taiwan要早四五年。