国产光刻机研发的脚步也大大减缓。到1990年3月，中科院光电所研制的I0E1010G直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率1.25微米，主要技术指标为美国GCA8000型的水平，仅相当于国外80年代中期水平。

当时中国最大的半导体企业——上海元件五厂。1980年利润高达2070万元，职工人均利润1.5万元。1985年上海元件五厂的产值依然有6713.1万元，利润达1261.4万元。然而到了1990年，上海元件五厂产值下降至1496万元，利润竟然仅有2.47万元，全厂1439人，人均利润仅有区区17.16元。熬了没几年，这家风光了三十年的中国半导体器件龙头企业就破产了。

觉得这是个无关紧要低技术含量小厂的，可以往上翻看看这个元件五厂的历史产物。

清风气，正视听，我说好得很

字词，顶

截图里这位没记错的话应该是ip山东那个罢，我实在是想不明白他是如何做到十几个月走完欧美精英科学家十几年的路的

佑佑看到这些只会撒泼打滚

1986年，电子工业部在集成电路战略研讨会上提出了一个531战略，既普及推广以742厂为基点的5微米技术、研发3微米、攻关1微米，但在贸工技思潮的影响之下，就连被作为模版推广的742厂，也选择了从国外引进3微米与1微米的技术设备，放弃自主研发。

没有订单意味着没有收入，而在基本投资建设资金由拨款转为贷款的大背景下，国产光刻机研发的融资空间极少，基本失去了生存空间，徐端颐先生的项目就这样被封存下马了。

光刻机三代技术突破的灵魂人物徐端颐先生，在项目下马后转行做起了光盘研究，后来的发展还不错，成为了中国光盘领域的主要奠基人之一，还曾因光盘相关的技术获得了国家发明二等奖。

不过，在他后来发表的论文中，再也看不到和光刻机技术相关的痕迹了。

如果说80年代引进落后生产线只是阵痛只是积累，那怎么解释90年代00年代照样亏血本无归？

1998年无锡华晶电子投产即落后（月产能仅6000片），华晶还要为此承担沉重的利息支出压力，后来不得不甩给了Taiwan人经营。与无锡华晶形成鲜明对比的是，1990年新加坡ZF投资特许半导体，只用2年建成，第三年投产，到1998年收回全部投资。

建的没人家快，产能也没人家高，这下小作坊了。唉，作坊。

2006年中芯国际突破了45nm技术，但最终因抬积电起诉无法量产，新研发的光刻机又成了摆设。